PECVD二氧化硅及氮化硅沉积
¥1,500.00
Free shipping on orders over $50!
- Satisfaction Guaranteed
- No Hassle Refunds
- Secure Payments
Description
技术指标
- 晶圆尺寸: 6英寸
- 可沉积材料：SiO2、Si3N4、PSG等
- 片内均一性（1 sigma）：≤1.5%
- Wafer to Wafer均一性（1 sigma）：≤1.5%
- 工艺温度：100℃、200℃、300℃、400℃工艺可调
¥1,500.00
Free shipping on orders over $50!
技术指标
