薄膜厚度修整

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描述

技术指标

  • 晶圆尺寸: 4, 6英寸
  • 可刻蚀材料： SiO2、Si3N4、AlN、AlScN、LiTaO3、LiTaO3、LiNbO3以及各类金属等
  • 薄膜修正精度：<1nm；
  • 薄膜修整速率：>3nm/min

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