匀胶显影
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Description
技术指标
- 涂胶工艺技术指标：
- 晶圆尺寸: 6英寸
- 匀胶片内均一性（1 sigma）：≤1.5%
- 匀胶Wafer to Wafer均一性（1 sigma）：≤1.5%
涂胶工艺技术指标：
- 晶圆尺寸: 6英寸
- 显影片内均一性（1 sigma）：≤5%
- 显影Wafer to Wafer均一性（1 sigma）：≤5%
