掺钪氮化铝AlScN磁控溅射
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Description
技术指标
- 晶圆尺寸: 6英寸
- 薄膜种类：掺钪氮化铝AlScN (Sc浓度20%)
- 片内均一性（1 sigma）：≤0.5%
- Wafer to Wafer均一性（1 sigma）：≤0.5%
- 应力可调范围:（-500Mpa~+500Mpa）
- 晶向半峰全宽（FWHM）：≤1.5%
